檢索結果：共5筆資料 檢索策略： "太陽能".ckeyword (精準) and ckeyword.raw="氫化非晶矽"
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本研究主要利用低溫、低電漿密度的UHV-PECVD系統成長太陽能電池的i層鈍化層，其材料種類有a-Si:H、a-SiOx:H、a-SiNx:H及a-SiCONx:H，並使用金屬遮罩搭配獨立腔體聯結式…
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氧化銦鍚(indium tin oxide, ITO)在可見光範圍具有量好的導電性及透光性，因此在光學元件上常利用ITO來增加載子的傳導與收集。以單晶矽太陽能電池為例，除了可以做為透明導電層之外，還…
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本研究係利用一低溫鋁擴散於非晶矽膜層使其形成p型多晶矽層之技 術，作為矽晶異質接合太陽電池製作之應用。以此技術製備p型膜層的實 驗結顯示，沉積厚度為30nm的非晶矽層與20nm厚的濺鍍鋁層接觸並經 …
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本論文針對鍺晶低能隙的特性，開發以鍺晶為基板之鍺晶異質接合太陽能電池，研究重點在比較射頻電漿輔助化學氣相沉積氫化非晶矽以及氫化非晶鍺薄膜來鈍化矽晶或鍺晶表面之效果。實驗以反射式高能電子繞射儀觀察非晶…
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本研究係用射頻電漿系統沉積氫化非晶矽薄膜，調變製程重要參數如氫氣稀釋比、基材溫度、工作壓力以及電極間距等，藉由傅立葉轉換紅外光光譜儀(FT-IR)以及紫外光/可見光光譜儀(UV-VIS)等分析方法，…